富臨科技於 04 March 2019 取得 SGS ISO 9001:2015 証書
 
FSE 發表針對LED 散熱基版之PVD/CVD 真空製程設備
LED 產業是近年來被認為最有潛力的產業之一,主要原因是大家期待LED 能夠進入照明市場,成為新照明光源,這會是最有希望的潛在市場。LED 體積小、效率高、反應時間快、產品壽命較其他光源長、不含對環境有害的汞,這些都是優點。但LED 的主要缺點除了散熱還是一大問題(這會降低LED 發光效率)外,亮度不均勻及成本遠高於其他光源,尤其是在一般照明應用上,也是LED急待解決的。

FSE 目前已開發完成真空鍍膜設備,並針對LED 散熱基版中之絕緣層(AlNx or DLC process)& 金屬層(TiW/Cu)提供相對應之真空設備,設備機型包含In line system & Inter back system.同時已完成42片大批量之SiO2成膜PECVD生產設備,以及GaN mesa蝕刻ICP機台之準備,且已獲國內與大陸多家廠商的採用。ICP etcher目前正積極開發PSS(patterned sapphire substrates)製程之應用,近期將會發表新的蝕刻結果。

發佈時間: 2009/12/15

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